设备：精密型等离子清洗机FEMTO
销售：021-31598236
产品功能：
清洗：工艺部件的表面通过离子束的物理轰击而被清洗，也可与特定气体发生化学反应从而被清洗，清洗掉的工艺污染物转化为气相被排出。如：去除有机污染物，去除纳米级微粒，去除氧化层
活化：工艺部件表面通过氧气或空气处理后，会在表面形成氧原子团，这样能使部件表面亲水性和表面张力提高，能使涂料和粘接剂更好的附着于上，提高其的粘合力和附着力。如：PDMS键合，粘接前的预处理，涂装前的预处理，印刷前的预处理。
蚀刻：工艺部件表面通过特定气体达到精确溅射，表面材料被剥离，转变成气相被排出，溅射后的材料表面积增大并更易湿润，也使材料表面更粗糙化。通过改变工艺参数可使材料表面蚀刻出一定的形状。 如：硅蚀刻，PTFE/PFA/FEP蚀刻，光刻胶去除。
涂层：使工艺部件表面发生等离子聚合反应，前驱单体导入等离子真空腔室后使其电离并沉积至材料表面，随即发生聚合反应，形成聚合物层。如：疏水层，亲水层，保护/阻隔层，干润滑层，疏油层。
具体应用：
• 硅蚀刻
• PTFE蚀刻
• 去除光刻胶
• 提高耐温塑料对于涂料和粘结剂的附着性
• 疏水层的沉积
• 亲水层的沉积
• 保护或绝缘层的沉积
• 防扩散层
• 石墨烯、煤样的灰化
• PTFE蚀刻
• 去除光刻胶
• 提高耐温塑料对于涂料和粘结剂的附着性
• 疏水层的沉积
• 亲水层的沉积
• 保护或绝缘层的沉积
• 防扩散层
• 石墨烯、煤样的灰化
| 主要技术参数 |
1. 全自动控制 PCCE 2. *根据工艺要求不同，可设定功率、压强、气体流量，时间等参数 3. 单路工作气体，气体流量通MFC流量计控制 4. 反应舱为不锈钢，Ø100 mm*L278mm，容积约为2.2L 5. 射频频率13.56MHz功率0~200W 6. 电极材质为铝/不锈钢 7. 运行模式为手动 8. 真空泵的排气能力为4m3/Hour，配有强制进气阀 9. *配有压力传感器，可根据工艺要求设定压力值 10. 外尺寸：W310*D420*H330mm 11. 电源电压：单相AC230V 16A |
选配：
半自动/PCCE 控制系统 (Microsoft Windows CE)/ PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)
气体：
针形阀流量计；MFC多路气体可选
压力测量：
Pirani/电容式压力计（适用于腐蚀性气体版本）
发生器：
40KHz0-100W/1000W 100KHz0-500W 80KHz0-1000W 2.45GHz0-100W/300W
腔体：
圆形不锈钢，带盖（约 ∅ 100 mm，长 278 mm 或长 600 mm）
矩形不锈钢，带铰链的门（约宽 103 x 深 285 x 高 103）
矩形铝材，带铰链的门（约 ∅ 103 mm x 103 mm，长 280 mm 或长 600 mm）
圆形石英玻璃 (UHP)，配有盖子或者带铰链的门（约 ∅ 95 mm，长 280 mm 或长 600 mm）
圆形硼硅玻璃 (UHP)，配有盖子或者带铰链的门（约 ∅ 95 mm，长 280 mm 或长 600 mm
矩形不锈钢，带铰链的门（约宽 103 x 深 285 x 高 103）
矩形铝材，带铰链的门（约 ∅ 103 mm x 103 mm，长 280 mm 或长 600 mm）
圆形石英玻璃 (UHP)，配有盖子或者带铰链的门（约 ∅ 95 mm，长 280 mm 或长 600 mm）
圆形硼硅玻璃 (UHP)，配有盖子或者带铰链的门（约 ∅ 95 mm，长 280 mm 或长 600 mm
托盘：
石英舟皿/粉末转鼓/散装件转鼓/铝板/不锈钢板/硼硅玻璃/石英
电极：
多层电极/RIE电极
其他：
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