设备：生产型等离子清洗机TETRA 定制
销售：021-31598236
产品功能：
清洗： 工艺部件的表面通过离子束的物理轰击而被清洗，也可与特定气体发生化学反应从而被清洗，清洗掉的工艺污染物转化为气相被排出。如：去除有机污染物，去除纳米级微粒，去除氧化层。
活化：工艺部件表面通过氧气或空气处理后，会在表面形成氧原子团，这样能使部件表面亲水性和表面张力提高，能使涂料和粘接剂更好的附着于上，提高其的粘合力和附着力。
如：PDMS键合，粘接前的预处理，涂装前的预处理，印刷前的预处理。
蚀刻：工艺部件表面通过特定气体达到精确溅射，表面材料被剥离，转变成气相被排出，溅射后的材料表面积增大并更易湿润，也使材料表面更粗糙化。通过改变工艺参数可使材料表面蚀刻出一定的形状。如：硅蚀刻，PTFE/PFA/FEP蚀刻，光刻胶去除。
涂层：使工艺部件表面发生等离子聚合反应，前驱单体导入等离子真空腔室后使其电离并沉积至材料表面，随即发生聚合反应，形成聚合物层。如：疏水层，亲水层，保护/阻隔层，干润滑层，疏油层。
活化：工艺部件表面通过氧气或空气处理后，会在表面形成氧原子团，这样能使部件表面亲水性和表面张力提高，能使涂料和粘接剂更好的附着于上，提高其的粘合力和附着力。
如：PDMS键合，粘接前的预处理，涂装前的预处理，印刷前的预处理。
蚀刻：工艺部件表面通过特定气体达到精确溅射，表面材料被剥离，转变成气相被排出，溅射后的材料表面积增大并更易湿润，也使材料表面更粗糙化。通过改变工艺参数可使材料表面蚀刻出一定的形状。如：硅蚀刻，PTFE/PFA/FEP蚀刻，光刻胶去除。
涂层：使工艺部件表面发生等离子聚合反应，前驱单体导入等离子真空腔室后使其电离并沉积至材料表面，随即发生聚合反应，形成聚合物层。如：疏水层，亲水层，保护/阻隔层，干润滑层，疏油层。
具体应用：
• 去除油脂、油、氧化物、纤维
• 去除硅氧树脂
• 绑定、焊接、粘结前的预处理
• 金属部件涂装前的预处理
• 键合
• 石墨烯、煤样灰化
• 去除硅氧树脂
• 绑定、焊接、粘结前的预处理
• 金属部件涂装前的预处理
• 键合
• 石墨烯、煤样灰化
| 主要技术参数 |
1． 便捷的FULL PC触摸屏控制系统 2． 根据工艺要求不同，可设定功率、压强、气体流量与时间等参数 3． 双路工作气体，气体流量通过数字式流量计（MFC）控制 4． *反应舱为不锈钢制，L400xD625xH600mm ，容积为150L 5． 反应舱门铝制，带有玻璃观察窗 6． 样品托盘：十层，W340*D580mm/层 7． 配有Pirani压力计，实时数字显示反应舱的压力值 8． 高周波电流频率13.56MHz功率0~600W （或者0~1000W） 9． 反射波自动调节，无须手工调节 10． 电极材质为铝/不锈钢 11． 真空泵为Leybold D65B LVO 100，排气速度65m3/hour，配有氧气强制进气阀 12． 配有压力传感器，可根据工艺要求设定压力值 13． 600mm(L)*800mm(D)*1700mm(H)(含电源线突出部分) 14． 电源电压：三项AC400V 32A |
选配：
控制系统： PCCE全自动控制/PC全自动控制。
气体：
多路气体
腔体：
可根据客户要求定制大腔体
托盘：
石英玻璃舟皿/粉末转鼓/散装件转鼓/铝板/不锈钢板/硼硅玻璃/石英/水冷型
电极：
单层或多层/带气体喷淋装置的 RIE 电极
压力测量：
Pirani/电容式压力计 （适用于腐蚀性气体版本）
发生器：
80 kHz：0- 1000 / 3000 W 13.56 MHz： 0 - 300 W/600 W/ 1000 W 2.45 GHz： 0 - 1200 W
其他：
......
